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Business

Company endeavoring to satisfy customers with
the continuous technology development and facility investment

ceramic powder

SW-YT35

Purity (%) Particle Size (㎛) Flow-ability (g/s) Apparent density (g/㎤) Applications
99.99 -53 ~ 10 3.0 2.1 LCD, Semiconductor, etc

SW-YT25

Purity (%) Particle Size (㎛) Flow-ability (g/s) Apparent density (g/㎤) Applications
99.99 -35 ~ 5 3.0 2.1 Semiconductor, etc

SW-YT20

Purity (%) Particle Size (㎛) Flow-ability (g/s) Apparent density (g/㎤) Applications
99.99 -20 ~ 5 3.5 1.9 차세대 Semiconductor

SW-YT15

Purity (%) Particle Size (㎛) Flow-ability (g/s) Apparent density (g/㎤) Applications
99.99 -20 ~ 5 1.4 1.3 차세대 Semiconductor

thermal spray powderY2O3

  • 산화이트륨은 특히 할로겐 족이 함유된 gas 플라즈마 환경에서 우수한 에칭 저항성 및 내식성이 있으며, 우수한 전기 절연성 (체적 저항률 및 절연 파괴 강도)을 나타낸다.
  • 반도체 및 디스플레이 제조공정의 챔버 내벽에 사용되는 고순도 이트리아 코팅은 일반적으로 대기 플라즈마 분무로 진행되며,
    NF3 Gas와 CF3 Gas분위기에서 에칭및 침식에 대한 내구성이 매우 좋다.
  • 코팅 피막이 치밀할 수록 플라즈마 에칭 저항성 및 절연성이 우수해지며, 세원의 YT-25분말의 유동화 기술로 이것을 가능하게 할 수 있으며, 기존의APS와 SPS의 중간정도의 치밀한 코팅 피막 성능을 나타낼 수 있는 특화된 분말입니다.