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Business

Company endeavoring to satisfy customers with
the continuous technology development and facility investment

thermal spray

Display, SEMI Field

반도체,OLED,Solra cell 공정중 Dry Etcher Chamber 내부 부품에 내플라즈마 코팅을 통하여 chamber내 particle 생성 억제의 기능을 달성하고, 부품의 수명 연장하여 품질향상 및 원가절감을 실현할 수 있다.

High dense film formation

고치밀막 형성

당사는 이트리아를 다중전극 플라즈마를 이용하여 매우 치밀하게 코팅하므로써
할로겐 가스 플라즈마 환경의 에칭 저항성으로 챔버 오버홀 시간 증대 및 챔버내 파티클을 최소화 할 수 있어 고품질의 생산이 가능하다.
  • 고순도 용사분말을 적용한 코팅

  • PM주기연장

    부품의 수명연장으로 원가경쟁력 상승
  • 전압공급 안정화

  • 기존APS 코팅에서도 적용가능

  • 생산수율 향상

    생산 수율 개선으로 불량률 개선
  • 다중 전극의 안정된 출력과 인버터 정류방식을 통한 안정적인 전압공급

  • 미세용사분말 유동화 기술 특허보유

  • 세원Y2O3 powder series

    더욱 작아진 크기를 갖는 다양한 제품을 통하여 매우 치밀한 코팅 실현

Diagram

Parts List

  • TOP PROTECTOR_1/2/3/4
  • CLEANKIT_A/B
  • CLEANKIT_SUPPORT LINER CENTER_L/R
  • CLEANKIT_SUPPORT MIDDL CENTER_L/R
  • CLEANKIT_SUPPORT BLOCK A/B/C/D
  • CERAMIC CAP
  • CERAMIC CAP_S/L